Stress-induced VO2 films with M2 Monoclinic Phase Stable at Room Temperature Grown by Inductively Coupled Plasma-Assisted Reactive Sputtering
Résumé
[No abstract]
Christophe THIBAULT : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01757222
Soumis le : mardi 3 avril 2018-15:15:36
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:07