Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2016
Thomas Defforge : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-01792035
Soumis le : mardi 15 mai 2018-10:42:11
Dernière modification le : mardi 23 janvier 2024-09:42:54
Citer
Bin Lu, Thomas Defforge, Bálint Fodor, Benjamin Morillon, Daniel Alquier, et al.. Optimized plasma-polymerized fluoropolymer mask for local porous silicon formation. Journal of Applied Physics, 2016, 119 (21), ⟨10.1063/1.4953088⟩. ⟨hal-01792035⟩
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