Optimized plasma-polymerized fluoropolymer mask for local porous silicon formation - Université de Tours Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2016

Dates et versions

hal-01792035 , version 1 (15-05-2018)

Identifiants

Citer

Bin Lu, Thomas Defforge, Bálint Fodor, Benjamin Morillon, Daniel Alquier, et al.. Optimized plasma-polymerized fluoropolymer mask for local porous silicon formation. Journal of Applied Physics, 2016, 119 (21), ⟨10.1063/1.4953088⟩. ⟨hal-01792035⟩
35 Consultations
0 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More